快讯！快讯！
我国在光刻胶领域取得重大突破，
日本原以为垄断光刻胶90%以上的份额，严格实施高纯度光刻胶和氟化氢的出口限制，就能轻松拿捏我们。没想到我们这么快就取得了进展，北大的科研团队近日通过冷冻电子断层扫描技术，首次解析了光刻胶的微观结构，由此发现了光刻胶的核心秘密，指导开发出可减少光刻缺陷的产业方案！用大白话来说就是解决了光刻胶的良率问题，以前只能通过不断试错来发现问题，现在可以直接破解核心，不用盲目生产而是可以精准优化，大大加快了光刻胶的研发进程，这对于国产替代也是重磅利好！
不要小看光刻胶的作用，和光刻机都属于半导体制造的核心。两者是相辅相成的关系，高品质高良率的光刻胶可以帮助光刻机更好的生产出芯片，尤其是7纳米及更先进的制程。虽然日本在高端光刻胶方面仍然具有领先优势，但是我们在光刻机研发等多领域方面同时发力，挑战的是全世界。日本只是在单项产业一时领先，封锁就封锁吧，留给他们得意的时间不多了！
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