中国芯片产业最近迎来大突破!2025年4月,中科院上海光机所林楠研究员团队成功研发出基于固体激光器的LPP - EUV光源。EUV光刻是造7纳米以下先进制程芯片的核心技术,其光源系统是光刻机“心脏”。以往传统EUV光源依赖美国Cymer公司的二氧化碳激光器,技术被美方封锁。 林楠团队另辟蹊径用固体脉冲激光器作驱动光源,能量转换效率达3.42%,超越欧美同类型研究水平。虽未达商用标准,但已超荷兰和瑞士团队,是打破美国垄断的关键一步,也为国产EUV光刻机研发奠定基础,未来可期!



中国芯片产业最近迎来大突破!2025年4月,中科院上海光机所林楠研究员团队成功研发出基于固体激光器的LPP - EUV光源。EUV光刻是造7纳米以下先进制程芯片的核心技术,其光源系统是光刻机“心脏”。以往传统EUV光源依赖美国Cymer公司的二氧化碳激光器,技术被美方封锁。 林楠团队另辟蹊径用固体脉冲激光器作驱动光源,能量转换效率达3.42%,超越欧美同类型研究水平。虽未达商用标准,但已超荷兰和瑞士团队,是打破美国垄断的关键一步,也为国产EUV光刻机研发奠定基础,未来可期!



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