根据研究课题推测，国产光刻机最晚2024年9月就能满足14纳米制程工艺

2024年9月结题的光刻机双工件台关键核心零部件研究课题从侧面说明，国产光刻机最晚到2024年9月就已经能够满足14纳米制程工艺精度要求。
广东省基础与应用基础研究基金项目：面向14nm光刻机的多维光栅干涉测量模型与动态误差补偿机制研究
项目开展时间：2021.10-2024.09