这几天，网上的信息透露中国浸润式DUV光刻机技术获得了突破，那么距离EUV光刻机就不远了。 国外专家表示，EUV光刻机除了光源和部分零件以外，大部分技术都是以浸润式DUV光刻机为基础的。说白了就是在浸润式光刻机上面换一些零部件。 谈到浸润式光刻机不得不提台积电。 2000年，台积电招募华人科学家林本坚，让其担任负责研发的副总经理。2002年林本坚提出浸润式光刻技术的概念。他指出，水的折射率大于1，把透镜和晶圆之间的介质从空气换成水，就可以将193纳米的波长缩短到157纳米，从而提高光刻的精度。 因为台积电是芯片制造厂，无法制造光刻机，于是台积电与多家光刻机公司联系，而尼康和佳能等公司，在干式光刻机投入了大量资金，不相信林本坚的技术，甚至抵制这一技术推广。 但是荷兰ASML看到了浸润式光刻技术的潜力，于是跟台积电再2004年研发出全球第一台浸润式光刻机。也凭借浸润式光刻机，ASML成为光刻机市场的主导者，而台积电也凭借浸润式光刻机再2004年拿下全球一半的芯片代工合同，成为全球最大的芯片代工企业。 台积电和ASML顺利合作，也跟飞利浦在当时是这两家大公司的股东有一定关系，果然自己人好办事！ EUV光刻机是从浸润式光刻机演变而来的，基础技术基本上没变，只要解决光源和一些部件的问题，就能够开发出EUV光刻机。 EUV光刻机采用的是德国蔡司镜头，目前被称为唯一。我们想开发出EUV，也必须开发出可以比肩蔡司镜头的产品。
anlexy
日本造了几十年DuV也没挤进EuV门槛，这牛皮吹得。
陌上归人 回复 09-24 17:51
就是蠢，一副好牌打的稀巴烂
一一 回复 09-24 17:31
鬼子说是能搞5NM的浸没式光刻机，去年一月份才推向市场。至今，没人用它货去产7NM[滑稽笑]这种废～
道法自然
这种相似只是生产流程上的，结构上完全不同。
用户44xxx03
中国的Euv光刻机车间已经在第三季度试产了
让心清醒
网上的信息透露中国浸润式DUV光刻机技术获得了突破，那么距离EUV光刻机就不远了。……还很远。
让心清醒 回复 09-20 12:52
我也希望啊，但是这一步比原子弹都难
长平 遗魂 回复 让心清醒 09-22 05:19
对。原子弹一次性的。炸了就没了。光刻机工业用的，得一直运行。
aaaaa
镜头+纯水+高精设备
草民磊19G2
你怎么觉得中国没有突破EUV光刻机？按照我们中国人一贯的谨慎作风，可以展示公告的通常都是落后一代的产品。因此，中国其实已经突破EUV,只是在某些环节还没有完全成熟，还不足以进入量产或者某些零件还没有可以在国产化上取得突破。还必须继续搞卧薪尝胆的沉默式研发，不暴露自己的底牌，等待实现完全体的技术闭环。当然，可以肯定的是，这一天不远了。 ,
玉林久哥 回复 09-20 08:13
这和军事装备不一样，不一样的赛道不一样的策略，接近相反的，倒迫美国放弃封锁
用户10xxx35
差之毫厘，谬以千里
用户17xxx01
镀膜技术啊！
老胖
这次是真下血本了
老王
凡是“xx评国际”、“xx看世界”、“xx说军事”、“xx聊社会”这类五个字及其变种的公众号都有间谍嫌疑，大家评论的时候须注意，谨防钓鱼
用户10xxx79
中芯国际的员工都知道，这设备根本无法投入工业生产。这就是上微公司骗人忽悠国家补助的把戏。这公司投了好多钱在网上搞舆论贴带风向。
平凡的世界
duv镜头euv镜片最难！我创新的技术：1、在A液体中，滴入高温玻璃液，让玻璃液漂浮（可旋转）或悬浮或下沉（自由或旋转、A液体足够深）；这样可能让接触A液体的玻璃表面足够光滑。2、任何方法制造的光滑镜面，先冷却，后在真空环境下让反射或透光面被激光微秒加热、导致表面几层原子熔化后，用静置与旋转相结合的方法、在冷却后，重复前面熔化冷却步骤，利用表面张力向心力让镜面平整度到达或接近原子级，加上原子级镀膜技术，则镜面能满足高精度需求；冷却可以自然冷却也可以气液冷却。3、单面原子级光滑的玻璃，可切割打磨粗面后背靠背焊合，利用分子扩散均匀接触面，制成双面原子级光滑的镜头或镜片。本人一介草民，没学过镜面处理知识，看见光刻机光学模组久久无法突破，一时技痒，竟然不怕献丑说出所想。
事在人为
芯片真是暴利，太赚钱了。高端附加值爆棚！