关于氮化铝材料的几个关键数据:
1,氮化铝热导率大约为氧化铝7‑8倍,散热效率大幅提升,可承接高热流;
2,热膨胀系数相较氧化铝和硅芯片差值缩小近一半,温度反复变化时基板更不易开裂剥离;
3,介电常数略低于氧化铝,高频信号损耗更小。
普通氧化铝只能用于400G以内光模块与常规电源部件。
在1.6T时代,氮化铝才能满足光通信器件、AI服务器功率基板的严苛散热与信号传输需求。
关于氮化铝材料的几个关键数据:
1,氮化铝热导率大约为氧化铝7‑8倍,散热效率大幅提升,可承接高热流;
2,热膨胀系数相较氧化铝和硅芯片差值缩小近一半,温度反复变化时基板更不易开裂剥离;
3,介电常数略低于氧化铝,高频信号损耗更小。
普通氧化铝只能用于400G以内光模块与常规电源部件。
在1.6T时代,氮化铝才能满足光通信器件、AI服务器功率基板的严苛散热与信号传输需求。