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机构重仓!光刻机概念,有望强势上升走势,有以下7只1、【中船特气】公司亮点:中国
机构重仓!光刻机概念,有望强势上升走势,有以下7只1、【中船特气】公司亮点:中国船舶集团旗下,电子特种气体产能及收入规模国内企业第一,拥有光刻机业务。每股净资产:10.89元总市值:271.16元机构持股比例(%):23.042、【美迪凯】公司亮点:光学光电子、半导体行业细分领域领先企业,国内少数具备12英寸晶圆上提供整套光路层和声学层解决方案能力的企业。每股净资产:3.107元总市值:56.33亿机构持股比例(%):63.363、【蓝特光学】公司亮点:中国领先的光学产品制造企业。每股净资产:5.393元总市值:252.67亿机构持股比例(%):17.874、【芯碁微装】公司亮点:国内直写光刻设备领军企业,在微纳直写光刻领域构建了“光、机、电、软、算”全栈技术体系。每股净资产:17.52元总市值:254.25亿机构持股比例(%):22.625、【茂莱光学】公司亮点:主营精密光学器件、光学镜头及光学系统,外销为主。每股净资产:24.35元总市值:162.46亿机构持股比例(%):35.346、【晶方科技】公司亮点:全球第二大能为影像传感芯片提供WLCSP量产服务的专业封测服务商。每股净资产:7.066元总市值:173.87亿机构持股比例(%):22.857、【张江高科】公司亮点:上海浦东国资委旗下,张江科学城运营主体中唯一上市公司,建立了完整的集成电路产业布局,间接参股上海微电子涉及光刻机领域。每股净资产:8.814元总市值:532.13亿机构持股比例(%):55.07
荷兰光刻机巨头ASML表示,现在在美国的技术封锁下,中企想获取EUV光刻机几乎不
荷兰光刻机巨头ASML表示,现在在美国的技术封锁下,中企想获取EUV光刻机几乎不可能了,但是中国一直没有放弃,研发投入每年增速超过20%。2018年那会儿,中芯国际下了单要买EUV,本来计划2019年就能到货。钱那是真金白银付出去的,结果机器呢?一直没影儿。不是造不出来,也不是客户变卦不要了,而是美国那边一路施压,最后硬生生把荷兰政府和ASML都给推到了墙角,动弹不得。最初卡的是高端EUV,后来这口子是越收越紧,连部分的DUV设备也被盯上了。更狠的还在后头:不光是新机器不卖,连老设备的零件、维护、维修,都被一股脑儿塞进了那个漫长的审批链条里。你想想,一家晶圆厂的产线那是按小时算钱的,要是等几个月才能修一次机,这谁能扛得住?显然不能。问题恰恰也就出在这儿。美国以为靠这种层层加码的封锁,就能把中国半导体产业逼到绝境,让中国不得不依赖美国和其盟友的芯片供应,可他们压根没算到,中国从来就不是那种会轻易认输的主,越是被封锁,就越能爆发出强大的韧劲。2025年,中国全社会研发投入已经超过3.92万亿元,其中半导体领域的研发投入增速始终保持在20%以上,这些资金没有白花,而是全部投入到了核心技术的攻关中。北方华创的14nm介质刻蚀与导体刻蚀设备已经实现规模化量产,华海清科的12英寸CMP设备在28nm及以上成熟制程实现广泛应用,芯源微的涂胶显影设备通过了国内晶圆厂的产线验证,国内半导体设备企业已经形成了梯队化突破,从单一设备供应逐步升级为整线配套方案输出。反观ASML,虽然2025年的业绩再创新高,第四季度净销售额达到了创纪录的97亿欧元,还预计2026年EUV业务将实现显著增长,但它的日子其实并不好过。ASML自己也承认,预计2026年来自中国市场的营收占比将在20%左右,这还是在封锁的情况下,要是能放开对中国的出口限制,这个比例只会更高。这些年,ASML多次向美国求情,希望能放宽对中国的设备出口限制,可美国始终不为所动,毕竟在遏制中国半导体产业发展这件事上,美国从来不会顾及盟友的利益。ASML心里清楚,长期被美国捆绑,失去中国这个巨大的市场,迟早会被其他国家的企业超越,毕竟中国的研发速度和市场潜力,都是不可忽视的。美国的封锁,看似是遏制了中国,其实也是在搬起石头砸自己的脚。2026年初,美国白宫宣布对部分进口半导体、半导体制造设备加征25%的关税,试图保护本土半导体产业,可这一举措反而导致美国本土芯片企业的生产成本大幅上升。要知道,中国是全球最大的芯片消费国,也是重要的芯片零部件生产国,美国把中国排除在全球半导体产业链之外,不仅导致全球芯片价格波动,还让美国本土的芯片企业失去了巨大的中国市场,不少企业因为失去中国订单,业绩大幅下滑,甚至面临裁员、倒闭的风险。而中国这边,虽然面临设备封锁的困境,但也借着这个机会,加快了自主半导体产业链的构建,从设备到零部件,再到芯片制造,一步步突破,虽然和国际顶尖水平还有差距,但至少不用再完全被人卡脖子。国内的晶圆厂也在积极应对封锁带来的影响,一方面调整产线布局,重点发展中低端芯片,避开高端芯片对EUV的依赖,保障企业的正常运营;另一方面,加强和国内设备企业的合作,加快老设备维修的国产化进程,减少对进口零部件的依赖。上海微电子的SSX600系列ArF干式光刻机已经实现规模化量产,能满足成熟制程芯片的制造需求,虽然不能用于高端芯片生产,但也在一定程度上缓解了国内芯片制造设备短缺的压力。而且,中国在EUV的研发上也没有停下脚步,虽然EUV的研发难度极大,需要突破光源、工件台等一系列核心技术壁垒,但国内的科研团队一直在默默攻关,一点点缩小和ASML的差距。ASML说中企想获取EUV几乎不可能,这话确实没错,在当前美国的封锁下,想要从ASML手里买到EUV,难度极大。但他们忘了,中国从来不会把希望寄托在别人身上,别人不给,我们就自己造。每年超过20%的研发投入,不是盲目投入,而是有计划、有针对性地攻关核心技术;国内企业的多点突破,也不是偶然,而是无数科研人员日夜钻研的结果。美国的封锁,虽然给中国半导体产业的发展带来了诸多困难,但也倒逼中国加快了自主研发的步伐,让我们更加清楚地认识到,核心技术从来都不是靠买就能得来的,唯有自主创新,才能真正实现突围。现在的博弈,还远远没有结束,美国的封锁还会继续,中国的研发也不会停止,谁能坚持到最后,谁就能掌握全球半导体产业的话语权,而中国,显然已经做好了准备。
中美芯片大战,却让日本突然发现了一个重大的秘密!日媒紧急呼吁:“全球70%订单涌
中美芯片大战,却让日本突然发现了一个重大的秘密!日媒紧急呼吁:“全球70%订单涌向中国,价格低到让我们怀疑人生!”美国将EUV光刻机当“核弹”用,中国却悄悄抄起28纳米的“板砖”,将它们打了个措手不及!美国把EUV光刻机当成战略封锁的利器,死守先进制程入口,试图卡住中国半导体发展的脖子。中国没有一味硬拼高端节点,而是把重心放在28nm及以上成熟制程上。这些芯片看似不起眼,却像工业盐一样,渗透到新能源汽车、工业控制、家电、物联网、高铁信号、光伏逆变器等各个领域,少了它们,很多设备根本转不动。日本共同社等媒体最近报道的数据让人吃惊:到2025年底至2026年初,全球成熟制程芯片订单中,高达70%集中流向中国大陆晶圆厂。这个数字主要针对28nm及以上节点,反映出全球供应链的结构性转移。海外客户面对稳定供应和低报价,纷纷转向中国工厂下单。一些报道提到,某些功率半导体或汽车芯片,中国报价只有国外的三分之一甚至更低,比如40nm汽车芯片报价低至3.8美元,而日本企业报价可能在15美元左右。这种价差直接动摇了传统供应链。中国成熟制程产能扩张速度快得惊人。2023年,中国大陆在全球12英寸成熟制程份额已达29%,2024年继续爬坡,到2025年占比进一步提升。机构预测,到2027年,这一比例可能接近或超过40%,甚至更高。主力企业如中芯国际、华虹半导体、晶合集成等,积极扩建产线,聚焦显示驱动、图像传感器、功率器件等特色工艺。大量新厂投产,月产能稳步增长,2025年中国大陆晶圆产能占全球比重已接近三分之一。美国封锁反而成了倒逼力量。中国企业用足DUV光刻机,靠规模效应和产业链协同把成本压下来。良率稳定、交期短、价格实惠,这些优势让全球客户算完账就动心。汽车电子、工业自动化等领域需求旺盛,中国工厂承接了大量海外订单。日媒看到自家企业工厂闲置、订单流失,坐不住了,直呼价格低到难以置信,全球七成订单涌向中国。中国在成熟制程上站稳脚跟,也为后续突破积蓄力量。北京大学人工智能研究院孙仲团队2025年10月在《自然·电子学》发表成果,研制出基于阻变存储器的高精度模拟矩阵计算芯片。这种芯片兼容28nm及以上成熟工艺,实现精度媲美数字计算,在AI训练、6G通信等任务中,能效比和吞吐量远超传统GPU。这项进展避开了对高端光刻机的依赖,为算力瓶颈提供新路径。如今,中国半导体产业在成熟领域筑牢底座。高铁、移动支付、核电、新能源汽车、光伏发电等国家重大工程,到处可见国产芯片身影。海外人才持续回流,产业链上下游协同发力。外部压力越大,自主创新动力越足。成熟制程的领先地位,正一步步转化为更大竞争力,让全球格局悄然改变。
同时布局光刻机+光刻胶的A股核心公司:•南大光电(300346)光刻胶:国内唯
同时布局光刻机+光刻胶的A股核心公司:•南大光电(300346)光刻胶:国内唯一量产ArF光刻胶(28nm),客户中芯国际、长江存储光刻机:子公司配ASML浸没式光刻机,用于光刻胶验证与测试•晶瑞电材(300655)光刻胶:g/i线、KrF量产,ArF小批量出货光刻机:自有g/i线、KrF、ArF光刻机用于研发/测试•彤程新材(603650)光刻胶:控股北京科华(KrF国内市占40%),ArF通过验证光刻机:与上海微电子合作开发光刻胶配方,适配国产光刻机•上海新阳(300236)光刻胶:g/i线、KrF量产,ArF/EUV在研光刻机:供应光刻机化学机械抛光、清洗、涂胶显影配套设备•鼎龙股份(300054)光刻胶:KrF/ArF量产线投产,30+款产品光刻机:为光刻机提供抛光垫、清洗耗材,配套光刻工艺•久日新材(688199)光刻胶:i线光刻胶+光引发剂(光刻胶核心原料)光刻机:子公司布局光刻机溶剂、光敏剂,适配紫外光刻•茂莱光学(688502)光刻机:供应投影物镜、照明光学组件(光刻机核心)光刻胶:光学组件决定光刻胶曝光精度,深度协同•新莱应材(300260)光刻机:真空/流体/密封件(光刻机关键配套)光刻胶:光刻胶输送/存储高纯设备,覆盖中芯、上海微电子•张江高科(600895)光刻机:参股上海微电子(国产光刻机整机龙头)光刻胶:投资光刻胶企业,打造光刻产业链生态公开资料梳理,不作投资建议